直播课程
根据成像结果的不同光刻胶可分为哪两种类型其中哪种成本较低且应用较早
来源: 材料物理性能
发布时间:2017-02-18
题目例举出两种光刻胶显影方法例举出7种光刻胶显影参数请注意与下面材料物理性能题目有着相似或相关知识点, 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶; 在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么。
根据成像结果的不同光刻胶可分为哪两种类型其中哪种成本较低且应用较早
学习时建议同时掌以下几题,解释光刻胶显影光刻胶显影的目的是什么。
若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区光刻时需要使用哪种光刻胶为什么并简介光刻操作流程。
解释光刻胶选择比要求的比例是高还是低。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
2024年材料物理性能
考试报名审核系统
立即获取审核结果
一级建造师考生必刷题库
历年真题
历年真题
历年真题
历年真题
历年真题
历年真题
相关阅读
相关答疑
相关课程
热门资讯