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给出投影掩模板的定义投影掩模板和光掩模板的区别是什么
来源: 材料物理性能
发布时间:2017-02-18
题目解释什么是暗场掩模板请注意与下面材料物理性能题目有着相似或相关知识点, 解释扫描投影光刻机是怎样工作的扫描投影光刻机努力解决什么问题; 给出半导体质量测量的定义例出在集成电路制造中12种不同的质量测量。
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学习时建议同时掌以下几题,光刻和刻蚀的目的是什么。
离子源的目的是什么最常用的离子源是什么。
最通常的半导体材料是什么该材料使用最普遍的原因是什么。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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