半导体工业所用的硅单晶是用CZ法生长的

题目目前测定硅单晶中的氧碳含量最常用的方法收法请注意与下面材料物理性能题目有着相似或相关知识点, 半导体单晶中的点缺陷包括什么; 是半导体单晶重要电学参数之一它反映了补偿后的杂质浓度与半导体中的载流子浓度有直接关系。

半导体工业所用的硅单晶是用CZ法生长的

学习时建议同时掌以下几题,冷热探笔法测试硅单晶的原理是什么。

影响硅单晶电化学腐蚀速度的因素有哪些。

硅单晶的是一个重要的基本电学参数根据单晶制备时所参杂的元素它们是三价的还是五价的可以将单晶化分为P型。

相同的知识点，可以不同方式出题，建议一起学习掌握。