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例举出硅片厂中使用的五种通用气体
来源: 材料物理性能
发布时间:2017-02-18
题目描述在硅片厂中使用的去离子水的概念请注意与下面材料物理性能题目有着相似或相关知识点, 例举并描述金属用于硅片制造的7种要求; 例举硅片制造厂房中的7种玷污源。
例举出硅片厂中使用的五种通用气体
学习时建议同时掌以下几题,例举出两种最广泛使用的集成电路封装材料。
例举出两种光刻胶显影方法例举出7种光刻胶显影参数。
例举并描述硅片拣选测试中的三种典型电学测试第十九章。
相同的知识点,可以不同方式出题,建议一起学习掌握。
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