硅是一种重要的半导体材料应用范围广三氯苯甲硅烷SiHCl3还原法是当前制备高纯硅的主要方法生产过程

题目 请回答下列问题 1制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷SiHCl3还原法是当前制备高纯硅请注意与下面高一上学期化学题目有着相似或相关知识点, 高纯单质硅是重要的半导体材料它的制备流程为SiO2Si粗SiHCl3Si纯 下列说法不正确的是 ; 轧钢厂排出的废水主要含有盐酸通常采用的处理方法是 。

硅是一种重要的半导体材料应用范围广三氯苯甲硅烷SiHCl3还原法是当前制备高纯硅的主要方法生产过程

学习时建议同时掌以下几题, 科学家最新研制的利用氯化氢和氢气生产高纯硅的工艺流程如图所示容器①中进行的反应为Si粗+3HClg。

四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法有关反应的化学方程式为SiCl4+2H24HCl+Si。

由二氧化硅制高纯硅的流程如图下列判断中错误的是。

相同的知识点，可以不同方式出题，建议一起学习掌握。